Согласно сообщению, крупные производители чипов, такие как Samsung Electronics и Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., планируют внедрить последние машины ASML в ближайшие годы. Они также согласились с технологическим изменением, которое может увеличить производительность новых машин на 40 процентов. Это изменение связано с применением высокой NA EUV-литографии, которая позволяет создавать более мелкие элементы на чипах.
ASML предоставляет оборудование, которое использует лазерное излучение для нанесения паттернов на кремниевые пластины, что позволяет создавать сложные схемы микросхем. Улучшение этой технологии требует разработки более мощных источников света с короткими волнами, способными создавать мельчайшие элементы на пластинах.
Сообщите редакции. Существенные исправления мы отмечаем в материале.